金刚石化学机械抛光研究现状

摘要：

金刚石由于其独特的性质成为未来科技的重要材料,但较差的表面质量会影响其在高科技领域的应用,因此实现金刚石超精密加工是提高金刚石应用的关键.化学机械抛光(CMP)是集成电路中获得全局平坦化的一项重要工艺,能够实现金刚石的超精密加工.介绍了现有的金刚石加工方法和金刚石化学机械抛光的研究现状,并与其他的加工方法(机械抛光、摩擦化学抛光、热化学抛光等)进行了对比,其他加工方法存在加工后表面损伤严重、加工表面粗糙度无法满足需要等问题.金刚石的化学机械抛光工艺经历了由高温抛光向常温抛光的发展过程,该加工方法设备简单、成本低、抛光后的表面粗糙度(Ra)可以达到亚纳米级别.此外,金刚石的分子动力学模拟(MD)使人们从原子尺度对金刚石抛光过程中纳米粒子的相互作用和抛光机理有了深入了解.虽然金刚石化学机械抛光还存在着许多亟待解决的问题,但是其发展前景依旧十分乐观.

关键词：金刚石、化学机械抛光、半导体、平坦化、超精密加工

所属期刊栏目：49

分类号：TG356.28(金属压力加工)

资助基金：中央高校基本科研业务费资助;国家自然科学基金

在线出版日期：2020-05-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共12页

页码：11-22