"高能冲击磁控溅射技术及工程应用" 专题序言
磁控溅射发展于20世纪70年代,已经被广泛地应用于电子、光学、传感、机械、航空航天等高科技领域.但在应用过程中,人们也日益发现其低离化率(<1％)对磁控溅射的工艺稳定性、绕过性、深孔沉积能力甚至涂层质量等都有很大限制.因此,提高离化率(甚至不惜引入额外的离化装置)曾是该领域持续30多年的研究热点.1999年HiPIMS的出现,改变了这一局面.HiPIMS利用高能脉冲冲击溅射靶材,可在不产生宏观颗粒(Macro Particle)的情况下,极大提高被溅射粒子的离化率,获得比 dcMS 高得多的等离子体密度,使沉积粒子的绕射性、可控性等大大增强.HiPIMS可用来制备更致密或具有独特性能的涂层,甚至可用来调制涂层原子的化学计量比或控制涂层结构等.因此,一经出现,马上吸引了PVD领域研究者的目光,瑞典、日本、美国、英国、中国、澳大利亚等国家研究机构纷纷开展相关研究,取得了丰硕的研究成果.
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2019-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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前插1-前插2
