10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.04.006
等离子体处理对石墨膜表面亲水性的影响
目的 通过等离子体处理石墨膜,提高石墨膜表面的亲水性.方法 采用不同的工艺条件对石墨膜进行等离子体处理,测试石墨膜的表面接触角.利用扫描电子显微镜和原子力显微镜观察石墨膜处理前后表面形貌的变化,通过X射线光电子能谱分析石墨膜处理前后表面成分的变化.采用万能材料试验机测试镀铜样品的剥离强度,评价铜镀层与石墨膜的结合力.结果采用空气处理气氛时,在气体流量为0.4 L/min、功率为60 W的条件下,处理30 s,石墨膜的接触角从处理前的93.41°降至4.49°;表面均方根粗糙度由952.10 pm提高到12.54 nm,最大高低差从10.81 nm升至72.70 nm.由X射线光电子能谱分析可知,石墨膜经等离子体处理后,碳元素的原子数分数由未处理的98.37%下降到83.13%,氧元素的原子数分数由未处理的1.63%升高到16.87%,氧碳含量比则由起初的1.66%升高到20.29%.结论 石墨膜经等离子体处理后,表面被刻蚀并且引入含氧极性基团,等离子体处理显著提高了石墨膜表面的亲水性.
石墨膜、等离子体、表面改性、亲水性、接触角、结合力
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TB43(工业通用技术与设备)
国家高技术研究发展计划863计划项目2013AA032502
2018-06-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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