哈氏合金C-276电抛光中抛光液的失效分析

摘要：

目的 哈氏合金C-276带材被广泛用作第二代高温超导体YBCO的金属衬底,其表面抛光质量(粗糙度Ra)要求极为严格.为了保证抛光质量就要有效控制电化学抛光液,对抛光液的变化及失效与否进行分析.方法 以哈氏合金C-276带材为研究对象,采用非接触式电化学抛光方法,使用扫描电镜、原子力显微镜、金相显微镜、微波等离子体原子发射光谱仪等仪器设备,阐明了抛光液中H3PO4和H2SO4等主要成分的作用及工艺要求,并测定单位体积抛光液在一定时间内通过电量(Ah/L)后,H3PO4、H2SO4含量及Ni、Cr、Mo等金属离子浓度.结果 当H3PO4、H2SO4含量分别在775~1013 g/L、318~451 g/L范围内,Ni、Cr、Mo三种金属离子质量浓度分别小于7.3、2.7、3.4 g/L时,C-276带材表面的粗糙度才能满足工艺要求Ra<1 nm(5μm×5μm).结论 通过对电化学抛光液中的H3PO4、H2SO4、添加剂、金属离子浓度等有效控制,采用非接触式电化学抛光,实现了千米级哈氏合金第二代高温超导带材的连续生产,并且表面粗糙度Ra<1 nm.

关键词：哈氏合金、电化学抛光、抛光液、粗糙度

所属期刊栏目：46

分类号：TG175.3(金属学与热处理)

资助基金：江苏省科技成果转化专项资金招标项目BA2015029 Biography:Suported by the Scientific and Technological Achievements into a Special Tender Project of Jiangsu Province BA2015029

在线出版日期：2017-07-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：255-260