复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展

摘要：

高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是一门新兴的高离化率磁控溅射技术.概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界面结合强度以及复杂形状工件表面膜层厚度均匀性好等.同时归纳了HIPIMS存在的问题,包括沉积速率及低溅射率金属靶材离化率低等.在此基础上,重点综述了近年来复合HIPIMS技术的研究进展,其中复合其他物理气相沉积技术的HIPIMS,包括复合直流磁控溅射增强HIPIMS、复合射频磁控溅射增强HIPIMS、复合中频磁控溅射增强HIPIMS、复合等离子体源离子注入与沉积增强HIPIMS等;增加辅助设备或装置的HIPIMS,包括增加感应耦合等离子体装置增强HIPIMS、增加电子回旋共振装置增强HIPIMS,以及增加外部磁场增强HIPIMS等.针对各种形式的复合HIPIMS技术,分别从复合HIPIMS技术的放电行为、离子输运特性,及制备膜层的结构与性能等方面进行了归纳.最后展望了复合HIPIMS技术的发展方向.

关键词：高功率脉冲磁控溅射、高离化率、物理气相沉积、辅助装置

所属期刊栏目：45

分类号：TG174.442(金属学与热处理)

资助基金：中央高校基本科研业务费专项资金项目资助2572015CB07;黑龙江省科学基金项目资助QC2016053;中国博士后科学基金项目资助2016M590273;黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助12523008Supported by the Fundamental Research Funds for the Central Universities 2572015CB07;The Science Foundation of Heilongjiang Province of China QC2016053;The China Postdoctoral Science Foundation 2016M590273;The Scientific Research Fund of Heilongjiang Provincial Education Department 12523008

在线出版日期：2016-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：82-90