低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展

摘要：

与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层. 介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望.

关键词：低压等离子喷涂技术、热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料

所属期刊栏目：45

分类号：TG174.442(金属学与热处理)

在线出版日期：2016-03-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：111-117