放置方向和沉积时间对 Ti 大颗粒分布状态的影响

摘要：

目的：研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对 Ti 大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备 TiN 薄膜,采用扫描电子显微镜观察 TiN 薄膜的表面形貌,利用 ImageJ 图像软件对 TiN 薄膜表面中 Ti 大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25 cm,当基体表面与靶表面垂直放置时,薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少,同时出现了典型的长条状大颗粒；随着沉积时间从5 min 增加到50 min,大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置,沉积时间为30~40 min 时,薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

关键词：电弧离子镀、TiN、大颗粒、放置方向、沉积时间

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51401182;航空科学基金2012ZE55011;河南省高校科技创新团队支持计划2012IRTSTHN014@@@@Fund:Supported by the Natural Science Foundation of China51401182;the Aviation Foundation of China2012ZE55011;the Program for Science& Technology Innovative Research Team2012IRTSTHN014

在线出版日期：2014-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：6-10,41