管状构件内表面真空镀膜方法研究进展

摘要：

综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对管状构件内表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积及各种等离子体(包括直流、射频及电子自旋共振等离子体)增强化学气相沉积方法在管状构件内表面镀膜方面的应用,分析了这种方法的优缺点;重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极(或三极)溅射、磁控溅射及离子束(或激光束)溅射)及电弧离子镀技术在管状构件内表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、薄膜厚度轴向均匀性、膜/基结合力等方面的特点.最后对管状构件内表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向.

关键词：管状构件、内表面、物理气相沉积、化学气相沉积

所属期刊栏目：43

分类号：TG174.444;TB43(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51171197Supported by the National Natural Science Foundation of China51171197

在线出版日期：2014-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：118-125,149