放电镀膜时等离子体通道内粒子状态的计算机模拟
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放电镀膜时等离子体通道内粒子状态的计算机模拟

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目的 分析液相脉冲放电微观机理,解释放电过程中放电通道对电极的影响.方法 以45钢表面液相脉冲放电沉积TiC陶瓷涂层放电沉积瞬间极板间形成的单脉冲等离子体为研究对象,用粒子模拟的方法描述了放电通道中电子、钛离子的运动及分布状态.结果 放电通道中电子的运动较为活跃,在放电形成的开始阶段,电子由工件电极负极激发,迅速向工具电极移动,期间通过与液相介质中的中性粒子碰撞,迅速往工具电极积累,运动过程中遵循等离子体的集体运动特性,过程贯穿于整个等离子体的形成过程;在相同的时间步长内,放电通道中Ti离子的运动比电子要缓慢得多,在脉冲放电期间需要较多的时间才能迁移到极板.结论 放电镀膜时,所用极间距应大于电火花成形加工时的极间距.

液相脉冲放电、粒子模拟、放电通道、等离子体

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TG174.453;TP391.9(金属学与热处理)

国家自然科学基金资助项目51075075;高等学校博士学科点专项科研基金资助项目20104420110006 Supported by the National Natural Science Foundation of China51075075;the Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Education Project20104420110006

2014-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

6-9,22

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表面技术

1001-3660

50-1083/TG

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2013,42(6)

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