本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响
采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300~1100 nm波长范围内透过率的影响.结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加;本底真空度较低时,其变化对薄膜的厚度、方块电阻和透过率的影响较大,随着本底真空度的增加,影响程度逐渐降低.
磁控溅射、AZO薄膜、本底真空度
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TG174.444;O484.4(金属学与热处理)
2013-04-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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