AZ91镁合金表面制备Ni-SiO2纳米复合电镀层的工艺研究

摘要：

采用复合电沉积技术在AZ91镁合金表面制备Ni-SiO2纳米复合镀层,并研究各工艺参数对镀层的影响,从而得出最佳工艺.研究结果表明:在镀液中纳米SiO2的添加量为20 g/L,阴极电流密度为1.0 A/dm2,镀液温度为50℃,活性剂A的添加量为1.0 g/L,pH为5～6的条件下,经过20～30 min电沉积,可获得均匀、平滑的镀层,镀层的显微硬度与耐蚀性最佳.

关键词：镁合金、纳米复合电镀、显微硬度、耐蚀性

所属期刊栏目：41

分类号：TQ153.1

在线出版日期：2013-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：68-70