靶基距对柔性基底上脉冲激光沉积透明导电薄膜的影响

摘要：

采用脉冲激光沉积法,控制靶基距分别为4,6,8 cm,在聚乙烯对苯二甲酸酯基底上沉积铟锌氧化物、铟锡氧化物和铝掺杂氧化锌薄膜,研究了靶基距对薄膜电学、光学、形态和结构特性的影响.结果表明:采用6～8 cm靶基距制备的TCO薄膜,在可见光范围内的光学透光率超过90％,电阻率约为5×10-4 Ω·cm;除了这些优良的电学和光学特性外,靶基距8 cm制备的薄膜均匀、光滑、附着好,且无裂缝或任何其它扩展的缺陷,适用于光电设备.

关键词：脉冲激光沉积、柔性基底、透明导电氧化物、掺锡氧化铟、铝掺杂氧化锌、铟掺杂氧化锌

所属期刊栏目：41

分类号：TB43;O484.4(工业通用技术与设备)

资助基金：上海工程技术大学研究生科研创新项目A-2603-11-01K189;上海工程技术大学研究生科研创新能力培养专项资金B-8909-11-03008

在线出版日期：2013-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：55-59