SiO2/TiO2变折射率光学薄膜制造技术研究

摘要：

探讨了单源混蒸技术制备SiO2/TiO2变折射率薄膜的可行性,分别蒸发SiO2和TiO2质量比为1:1和1:2的混料,研究分析了薄膜折射率的变化情况,并将其与双源共蒸的方法进行了比较.实验中发现,两种材料蒸发方式的差异是影响SiO2/TiO2变折射率薄膜制备的主要因素,尚未发现混料中SiO2和TiO2的质量比与SiO2/TiO2薄膜折射率的对应关联.

关键词：SiO2/TiO2薄膜、单源混蒸、电子束蒸发、变折射率

所属期刊栏目：40

分类号：TG174.444;O484.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：58-61,77