10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.017
SiO2/TiO2变折射率光学薄膜制造技术研究
探讨了单源混蒸技术制备SiO2/TiO2变折射率薄膜的可行性,分别蒸发SiO2和TiO2质量比为1:1和1:2的混料,研究分析了薄膜折射率的变化情况,并将其与双源共蒸的方法进行了比较.实验中发现,两种材料蒸发方式的差异是影响SiO2/TiO2变折射率薄膜制备的主要因素,尚未发现混料中SiO2和TiO2的质量比与SiO2/TiO2薄膜折射率的对应关联.
SiO2/TiO2薄膜、单源混蒸、电子束蒸发、变折射率
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TG174.444;O484.4(金属学与热处理)
2012-03-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
58-61,77