磁控溅射铬镀层的微观组织结构研究

摘要：

采用磁控溅射技术制备了铬镀层,利用X射线衍射仪研究了铬镀层的物相和择优生长取向,并结合扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察、分析了铬镀层的微观组织结构.研究结果表明:磁控溅射铬镀层呈多晶态结构,以Cr(110)晶面为择优生长面;铬镀层截面呈柱状生长特性,在沉积的最初阶段即形核晶化,随着沉积时间的延长,晶化程度逐渐提高.

关键词：磁控溅射、铬镀层、微观形貌

所属期刊栏目：40

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2011-07-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：41-42,68