铜-钨(钼)薄膜制备及应用的研究进展

摘要：

介绍了近年来铜-钨(钼)薄膜涂层的制备方法.包括溅射沉积法、离子束辅助沉积法、离子束混合法、电子束蒸发法.重点介绍了溅射法中的磁控溅射法和离子束溅射沉积法,分析了薄膜的结构特征及其在固体润滑剂、电子设备、表面修饰材料等领域的应用,并展望了未来的研究方向和应用前景,指出制备散热材料是未来铜一钨(钼)薄膜研究的主流方向.

关键词：铜-钨(钼)薄膜、溅射、热控制

所属期刊栏目：39

分类号：TG174.44;TB43(金属学与热处理)

资助基金：江西省教育厅科技计划项目GJJ10206

在线出版日期：2010-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：90-93