10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.015
不同Cu含量的TiNiCu形状记忆合金薄膜的组织与相变
利用TEM、XRD、DSC测试方法,首次系统地研究了直流磁控溅射制备的3种不同Cu含量的TiNiCu形状记忆合金薄膜的退火组织和加热与冷却过程中发生的相变.结果表明:退火后的薄膜获得了形状记忆性能;随着薄膜中Cu含量的增加,薄膜的退火组织出现差异,相变滞后明显变小,相变温区变窄;使获得快速响应的形状记忆合金薄膜成为可能.
TiNiCu形状记忆合金、薄膜、相变
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TG174.444(金属学与热处理)
2008-05-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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