氢化锆表面Cr-C-O氢渗透阻挡层XPS分析

摘要：

在空间堆中,氢化锆作为慢化剂的工作温度为650～750℃,在此温度范围内,H/Zr原子数之比大于1.8的氢化锆中的氢很容易析出.通过X射线光电子能谱(XPS)研究了电镀法制备的氢化锆表面氢渗透阻挡层的化学态,对镀层进行了深度(100、200、300nm)刻蚀分析和镀层原子的定量分析.结果表明,镀层中含有C、O、Cr和Zr,进行氢渗透试验后(700℃保温)的试样镀层的C-H键数量有明显增加,而O-H键的数量变化不大.由此可以说明,氢渗透受阻的原因是氢在渗透过程中被镀层中的C优先捕获生成C-H键.

关键词：氢化锆、电镀、氢渗透、阻挡层

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分类号：TG174.4;TG156.8(金属学与热处理)

资助基金：国家重点实验室基金51481260105SC0301

在线出版日期：2006-05-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：60-61,74