磁控反应溅射沉积CrN薄膜的抗氧化性研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1001-3660.2005.06.015

磁控反应溅射沉积CrN薄膜的抗氧化性研究

引用
通过磁控反应溅射在H1模具钢表面沉积了CrN薄膜.用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)观察了试样的表面形貌,进行了物相分析,研究了CrN薄膜的抗氧化性能,讨论了膜层的抗氧化行为和机制.结果表明:在500℃以下,CrN膜层具有良好的抗氧化性,能大大提高基体的抗氧化性能.当温度超过600℃时,由于膜层产生剥落而失去使用性能.

磁控溅射、CrN薄膜、抗氧化性

34

TG174.44(金属学与热处理)

扬州大学校科研和教改项目JK0313088

2006-01-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

40-41,44

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

表面技术

1001-3660

50-1083/TG

34

2005,34(6)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn