10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.020
微带蚀刻工艺影响因素的探讨
阐述了在微带精密蚀刻过程中影响蚀刻速率变化的诸多因素,探讨了酸性氯化铜蚀刻液工艺控制应该注意的问题和解决办法.
微带、蚀刻、酸性氯化铜、络合离子
33
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
50-51
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10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.020
微带、蚀刻、酸性氯化铜、络合离子
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TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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