低碳钢在氢氧化钠溶液中电化学腐蚀的影响因素和偏钒酸盐的缓蚀作用

摘要：

用周期伏安法和动电位单向扫描技术研究低碳铜在氢氧化钠溶液中的电化学腐蚀行为.伏安图形状与起始电位、扫描速率和溶液成分有关,氢氧化钠溶液中含氯离子时会产生明显的孔蚀.在不含氯离子和含氯离子的氢氧化钠溶液中9偏钒酸盐对低碳钢可作为缓蚀剂使用.在25～45℃温度区间,偏钒酸根的缓蚀作用无实质性变化.

关键词：低碳钢、氢氧化钠、孔蚀、缓蚀剂、电化学腐蚀

所属期刊栏目：29

分类号：O64;TQ42(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2006-02-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：29-32