10.3969/j.issn.1001-3660.2000.01.001
几种低压气相沉积技术制备立方氮化硼膜的新进展
介绍了c-BN的优异特性及应用前景.评述了c-BN膜的几种低压物理气相沉积(PVD)和低压化学气相沉积(CVD)制备方法,分析其成膜特点及对c-BN形成有显著影响的工艺参数.介绍了当前c-BN膜研究取得的成果,对如何提高成膜质量提出了自己的一些看法.
c-BN膜、PVD、CVD
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O64;TQ42(物理化学(理论化学)、化学物理学)
浙江省自然科学基金
2006-02-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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