量子点膜用高阻隔膜制备技术研究进展

摘要：

量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性.通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景.研究表明,量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻隔复合薄膜,是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势.

关键词：量子点膜、高阻隔膜、有机/无机多层膜

所属期刊栏目：21

分类号：TN304.055;O63;TQ028.8

在线出版日期：2021-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：23-28