基于光谱的专色叠印预测模型研究

摘要：

目前，专色叠印预测领域还没有形成成熟的理论算法，传统四色叠印预测方法应用于专色叠印过程时需要大量的样本色块，在多个专色叠印中实现困难较大。针对此问题，提出一种简单的专色叠印预测模型，能满足实际生产中印前设计以及数字打样的需求。采用对专色和叠印色分别进行光谱分析的方法，模拟两者之间的关系，对光散射、叠印率、透明度等物理因素进行修正，建立一种简单的专色叠印预测模型。测试色靶由两个专色以及与C、M、Y、K相互叠印的色块组成，采用胶印的方式进行印刷。对该模型的验证结果以CIEDE2000表示，专色叠印预测值与测量值之间的平均CIEDE2000值小于3。

关键词：专色叠印、光谱分析、叠印预测模型

所属期刊栏目：24

分类号：TS82;TS801(印刷工业)

在线出版日期：2016-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：17-21