超薄、连续PVDF铁电薄膜的制备与表征

摘要：

为了改善旋涂法制备纳米级超薄PVDF铁电薄膜的致密性和连续性，研究基体的表面处理对PVDF成膜性的影响，进行了对基体表面处理、改变PVDF溶剂成分、旋涂后的退火温度等对超薄PVDF铁电薄膜的连续性、表面形貌及其成分结构的影响研究。研究对硅和玻璃基底表面处理，紫外( UV)和氧等离子体辐照，改变基底的表面能后 PVDF 在基底上铺展特性。薄膜的表面形貌通过KEYENCE VHX-600超景深三维视频显微镜、扫描电子显微镜( SEM)和原子力显微镜( AFM)观察，采用傅里叶变换红外光谱( FTIR)和X射线衍射( XRD)对薄膜结构进行表征。结果表明：基底经过氧等离子处理可使质量分数为0．2%的PVDF溶液在硅和玻璃基体上形成超薄、连续的PVDF铁电薄膜。

关键词：聚偏氟乙烯、超薄连续、铁电薄膜、氧等离子体

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：2015年北京印刷学院大学生研究计划25000115004/050

在线出版日期：2016-03-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：65-68