10.3969/j.issn.1004-8626.2013.02.018
原子层沉积铝薄膜的研究
为了对原子层沉积金属薄膜进行研究,以三甲基铝为前驱体、氢气为还原剂,在微波电子回旋共振等离子体辅助原子层沉积装置中进行了铝薄膜的沉积.通过实验确定了三甲基铝和和H2进行饱和反应的参数.采用X射线衍射仪、原子力显微镜及四探针电阻仪对薄膜的结构和性能进行了测试.结果表明:用等离子体辅助原子层沉积技术可以成功制备金属铝薄膜,沉积速率和表面形貌受基底温度的影响,薄膜在H2氛围下退火处理后晶体结构可以得到有效改善,铝薄膜的表面电阻也有明显降低.
原子层沉积、微波电子回旋共振、退火、表面电阻
21
TG146(金属学与热处理)
2013-07-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
66-69