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10.3969/j.issn.1001-0645.2007.10.018

离子辅助反应蒸发技术室温制备ITO薄膜

引用
室温下利用离子辅助反应蒸发法在玻璃衬底上制备高透射比、低电阻率的ITO透明导电薄膜. 实验结果表明离子辅助蒸发可以有效地降低制备温度,提高薄膜的光电特性,薄膜具有明显的(222)择优取向,晶体粒子尺寸约为21 nm;离子源屏压、通氧量及沉积速率是影响薄膜光电特性的主要因素. 室温制备的ITO薄膜电阻率为2.4×10-3 Ω·cm,可见光平均透射比大于82%.

离子辅助反应蒸发技术、室温、ITO薄膜

27

O484.4(固体物理学)

2007-12-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

924-927

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北京理工大学学报

1001-0645

11-2596/T

27

2007,27(10)

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