退火处理对等离子体显示器中氧化镁薄膜特性的影响

摘要：

研究了电子束蒸发法制备的氧化镁薄膜在退火处理过程中特性的变化.研究表明:退火处理改善了薄膜的结晶性,降低了红外光谱中水分子吸收峰的强度,并使得低温或低通氧气量制备的氧化镁薄膜的可见光透射比下降,且这些薄膜在退火处理中极易产生裂纹.薄膜的结晶取向或结晶性是薄膜可见光谱变化和表面裂纹产生的主要原因,薄膜表面光洁度对可见光谱变化影响不大.

关键词：氧化镁薄膜、等离子体显示器、结晶性、退火处理

所属期刊栏目：26

分类号：TN43(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2006-04-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：63-67