制备条件对梯形聚硅氧烷取向层光取向行为的影响

摘要：

选用侧链含有双元光敏基团的梯形聚硅氧烷材料作为光取向材料,采用偏光显微镜(POM)及晶体旋转法,研究了梯形聚硅氧烷光取向层的制备条件,包括取向剂浓度、紫外光辐照度及光照时间对光取向层的取向行为的影响.结果表明,取向剂浓度越大,光敏基团更易于组装成垂直取向状态,进而诱导液晶分子形成垂直取向的分子排列方式.在一定的紫外光辐照度范围内可以有效地引起偶氮苯光敏基团的面内、面外异构化及再取向,有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式.紫外光光照时间的增加有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式.

关键词：梯形聚硅氧烷、光取向、平面取向、垂直取向、光敏基团

所属期刊栏目：30

分类号：TN104.3(真空电子技术)

资助基金：教育部重点项目;北京市科委科技项目;高等学校博士学科点专项科研基金

在线出版日期：2008-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：786-790