Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响

摘要：

研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△p/p是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小.

关键词：Ta种子层、溅射速率、各相异性磁电阻、矫顽力、(111)织构

所属期刊栏目：27

分类号：TM271(电工材料)

资助基金：国家自然科学基金;高等学校博士学科点专项科研基金;教育部科学技术研究项目

在线出版日期：2005-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：458-461