AZ91D镁合金低压交流氧化成膜机制
基于一种低的交流电压条件(10V),在NaOH和Na2SiO3的混合溶液体系中,对AZ91D镁合金进行电化学阳极氧化处理.利用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、电化学测试技术等手段研究了AZ91D镁合金表面阳极氧化的成膜过程、膜层生长的特点以及氧化工艺参数对膜层性能的影响规律.试验结果表明:在10V这样低的交流电压下,在镁合金表面获得的氧化膜层表面均匀,为无孔洞的平层状膜层,其生长过程呈叠加式特点;获得的氧化膜层的主要成分为Mg2SiO4;在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,经过电化学阳极氧化的镁合金的耐蚀性优于未经处理的镁合金.
AZ91、D镁合金、交流低压、阳极氧化、成膜过程
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TG174(金属学与热处理)
抗空科学基金资助项目2008ZE51064
2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
1186-1190