热铁盘法高速抛光CVD金刚石

摘要：

利用高速热铁盘抛光设备对化学气相沉积(CVD,Chemical Vapor Deposi-tion) 金刚石进行抛光,分别进行温度、转速、压力以及抛光时间的实验.采用光学天平对抛光前后金刚石称重对比,采用工具显微镜和原子力显微镜对抛光后表面进行研究.结果表明:较高的抛光速度对提高表面质量以及抛光效率均比较有利.在抛光温度 850 ℃,速度164 mm/s,压力 24.892 N 的条件下,抛光 120 min 后,金刚石表面的粗糙度由原来的R<,a>=9.67μm下降到R<,a>=0.016 μm.原子力显微镜显示,抛光表面存在少数高度在60～70 nm之间的突峰,其高度是普通峰高的2～3倍,且峰的形状呈现出一定的方向性.这种表面微观规律与抛光时采用的直压式运动方式有关.

关键词：化学气相沉积、金刚石、抛光、高速、实验

所属期刊栏目：34

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2008-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：412-416