微颗粒表面磁控溅射镀金属膜实验

摘要：

采用磁控溅射方法,成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜.利用光学显微镜(OM)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、多功能扫描探针显微镜(SPM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)和光电子能谱仪(XPS)等测试仪器对其表面形貌、膜厚和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制微颗粒的运动方式,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少,都有利于薄膜结晶.

关键词：磁控溅射、金属膜、微颗粒、空心微珠、碳化硅

所属期刊栏目：32

分类号：TB79;TB333(真空技术)

资助基金：航空科学基金;北京市教委共建项目

在线出版日期：2006-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1193-1198,1204