光固化微压印脱模过程对制品精度影响的研究
光固化微压印制品的脱模过程直接关系到制品的质量.利用ABAQUS软件对圆柱微结构阵列的光固化微压印脱模过程进行数值模拟,分析了光固化微压印出现撕裂和断晶缺陷的原因,并利用自制紫外光固化微压印成型实验平台研究了脱模过程对微结构阵列薄膜精度的影响.在光固化微压印脱模过程中,应力集中主要发生在圆柱微结构的表面及根部,当黏附力与摩擦力之和大于制品的内聚力时会带来制品缺陷.
微压印、光固化、脱模、缺陷分析、数值模拟
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TQ320.66
2021-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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