倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究

摘要：

通过数值模拟,研究了倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时的流场,进一步研究了雷诺数继续增大时涡的发展和演变,并且对相应的现象给出了解释.研究结果表明,继续增大雷诺数,圆台间涡的个数奇偶交替的周期变大;当雷诺数增大到300时,圆台间最终稳定为偶数个涡,涡的个数不再发生变化.

关键词：同轴旋转圆台、雷诺数、泰勒涡

所属期刊栏目：42

分类号：O242.1(计算数学)

在线出版日期：2015-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：113-116