聚甲氧基有机硅/莫来石杂化材料的高温处理与热膨胀性能研究

摘要：

制备了耐高温低膨胀聚甲氧基有机硅(PMOS)/莫来石杂化材料.FT-IR与XRD测试表明材料在热处理过程中PMOS基体逐渐降解,而莫来石晶体则随温度的升高而稍有生长;TG测试表明材料在800℃高温处理后仍有93.4%的质量残留;SEM显示莫来石均匀分散在PMOS基体中;材料的冲击强度随热处理温度的升高而先减小后增大,800℃热处理后材料的冲击强度为924 J/m2;材料的膨胀系数很低,且随莫来石含量的增加而减小;聚甲氧基有机硅/莫来石杂化材料具有良好的耐高温性能与低热膨胀性能.

关键词：有机硅、莫来石、耐高温、低膨胀

所属期刊栏目：38

分类号：TQ433.4

资助基金：民口配套资助项目JPPT-115-2-865;北京市教委重点学科共建项目XK100100433/XK100100540

在线出版日期：2011-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：44-48