氮离子轰击改善胶体石墨薄膜平面场发射特性的研究

摘要：

研究了氮离子(N+)轰击对石墨薄膜场发射特性的影响.片层石墨被N+轰击成较整齐排列的锥尖阵列,尖端密度～108cm -2.XPS谱证实有许多N原子注入薄膜,膜内存在大量sp2杂化轨道键.场发射测试表明,经过N+轰击,整个薄膜在场发射的均匀一致性方面有较明显的改善,场发射电流密度从0.3增大到1.65mA/cm2.

关键词：氮离子(N+)、溅射轰击、石墨、场发射阵列

所属期刊栏目：43

分类号：TN141;TN103(真空电子技术)

资助基金：国家自然科学基金60471008和60231010

在线出版日期：2007-07-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：412-416