植物诱导剂对黄瓜基质穴盘苗生长的影响

摘要：

以‘水果黄瓜A-B2,为试材,以植物诱导剂那氏齐齐发、叶面肥磷酸二氢钾喷施黄瓜苗叶片,以清水为对照,研究了植物诱导剂对黄瓜基质苗生长的影响,以期为培育优质黄瓜壮苗、提高壮苗指数、增加定植成活率提供参考依据.结果表明:喷施磷酸二氢钾和那氏齐齐发可有效控制黄瓜幼苗株高、叶长和叶宽,促进叶片数和茎粗的增加.黄瓜幼苗叶片数、茎粗和根长均以喷施磷酸二氢钾处理最大;黄瓜幼苗叶片SPAD值和氮含量则以喷施那氏齐齐发处理最高,均显著高于对照.喷施磷酸二氢钾和那氏齐齐发可抑制黄瓜幼苗地上部徒长,显著促进地下部生长,其中以喷施磷酸二氢钾处理最佳;根冠比和壮苗指数也以磷酸二氢钾处理最大.在黄瓜基质穴盘育苗生产中,喷施磷酸二氢钾可解决黄瓜幼苗徒长问题.

关键词：黄瓜、植物诱导剂、基质、育苗、生长

分类号：S642.204+.3

资助基金：新疆生产建设兵团科技攻关资助项目2016AC020.

在线出版日期：2017-03-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：44-46