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10.3969/j.issn.1673-1212.2014.03.029

微电解处理半导体含铜废水研究

引用
半导体废水中,含铜废液一般采用委托处理的方式,而含铜废水通常采用与酸性废水混合后进入中和系统再排放。在300 mm晶圆制造过程中,由于含铜废水水量波动大,如果未经有效处理就排放,容易造成总排口铜的超标。采用铁炭微电解对半导体含铜废水处理,研究表明:投加铁炭填料100 g/L,pH调至2.2,反应60分钟进水水质指标范围,铜的去除率可以达到97%以上。

微电解、半导体、含铜废水、处理方法

X703(一般性问题)

2014-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

106-108

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1673-1212

23-1532/X

2014,(3)

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