稀磁半导体制备方法的研究进展

摘要：

稀磁半导体(DMS)是一种新型功能材料,其结合了半导体和磁性材料的电学和磁学性质,具有优异的磁、磁光和磁电等性能,在未来的光电器件、自旋电子器件和计算机等领域具有广阔的开发应用前景.简述了我国稀磁半导体的研究成果及进展,重点讨论了稀磁半导体的制备合成方法,分析了各种制备方法的优缺点,包括分子束外延技术(MBE)、离子注入法、脉冲激光沉积(PLD)、助熔剂法、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶和水热法等.同时分析了目前稀磁半导体遇到的问题和困难,探讨了其解决方法,展望了稀磁半导体潜在的应用前景.

关键词：稀磁半导体、制备方法、掺杂、居里温度、室温铁磁性

所属期刊栏目：39

分类号：TN304.7(半导体技术)

资助基金：保定市科技局基金资助项目13ZR061;河北省留学回国人员择优资助项目20120322

在线出版日期：2014-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：294-299