CVD设备气流不稳定因素分析及解决方案

摘要：

为解决CVD设备在工艺过程中有时存在工艺参数周期性波动的现象,进行了相关分析.发现使用高压钢瓶存储的高纯气态源时,常使用单个调压阀和质量流量计(MFC)来减压和控制流量.而高压差和小流量工作常会导致调压阀的周期性开启,由此产生周期性的管道压力波动.由于MFC从设计上无法完全缓冲压力波动,进而引起流量波动,造成淀积材料参数的波动.针对这一问题提出采用改变气源、增加稳压装置等作为解决方法,并归纳为三种气路改动方案.通过在一台设备上应用,将波动范围由+120%/-40%缩小至+2%/-4%.

关键词：化学气相淀积、质量流量计、电子压力控制计、调压阀

所属期刊栏目：34

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2009-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：168-171