80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机

摘要：

针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战.其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据.80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平.本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,并包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度.

关键词：光刻系统、投影、影像、对准

所属期刊栏目：29

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2004-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：7-11,34