CVD金刚石膜制备方法及其应用

摘要：

介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。

关键词：金刚石膜、化学汽相沉积、热丝、等离子体

所属期刊栏目：26

分类号：TN304.1+8;TB43(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金59976038

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：55-59