10.3969/j.issn.1003-353X.2000.05.005
亚微米光刻与光掩模新技术现状与研发前景
介绍了光刻与光掩模技术背景与特征,及其创新技术研发的前景与市场机会.
集成电路、信息技术、光刻技术、光刻机、光掩模
25
TN305.7(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
18-21,32
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10.3969/j.issn.1003-353X.2000.05.005
集成电路、信息技术、光刻技术、光刻机、光掩模
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TN305.7(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
18-21,32
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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