丝裂霉素C在高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术中的应用

摘要：

目的 观察丝裂霉素C在降低高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术术后角膜上皮下雾状混浊的临床效果.方法 回顾性对比高度近视(-8.00D以上)患者,术中未用(对照组)和用0.02%丝裂霉素(实验组)各20例40只眼,分别于术后1个月、3个月、6个月随访结果,观察角膜雾状混浊的发生发展情况.结果 实验组雾状混浊的发生明显低于对照组,差异具有统计学意义(P<0.05).结论 丝裂霉素C在高度近视准分子激光上皮下角膜磨镶术术中的应用,可减轻术后雾状混浊的发生和发展.

关键词：高度近视、准分子激光上皮下角膜磨镶术、丝裂霉素C

所属期刊栏目：30

分类号：R779.63;R969.4;R285.5

在线出版日期：2009-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：877-878