Cu2+印迹杂化膜的制备、表征及其吸附特性优化

摘要：

以壳聚糖/TiO2杂化材料为功能基体,采用分子印迹技术制备了Cu2+印迹杂化膜,并利用红外光谱分析对其进行了表征.吸附选择性研究结果表明:在含等浓度Cu2+、Zn2+和Pb2+的水溶液中,印迹杂化膜表现出对Cu2+具有良好的吸附选择性.通过SAS软件对印迹杂化膜吸附Cu2+的吸附条件进行优化,结果表明最佳吸附条件为:pH约3.6,铜离子浓度99 mg/L,温度60℃,理论吸附率最大响应值为88.97%.

关键词：Cu2+印迹杂化膜、吸附选择性、吸附容量、优化

所属期刊栏目：22

分类号：TQ316

在线出版日期：2008-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：33-37